旋转涂胶机,12000转/分钟,北京赛德凯斯,转速安稳度，旋转涂胶机 挑选深圳邦企创源科技,晋级型旋转涂胶机 适应于半导体硅片,载玻片,晶片,ITO导电玻璃等工艺.转速调理规模50-12000转/分钟,转速安稳度可达±0.5%

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  PP防腐12英寸匀胶机运用十分快速地旋转发生的离心力来涂覆膜料的设备。本PP防腐12英寸匀胶机选用工业级大功率伺服电机，转速达5000RPM，可支撑12寸直径的基片。概况介绍：

  PP防腐12英寸匀胶机 本类型选用工业级大功率伺服电机，可完成更好的安稳性和均匀性，*大支撑12寸直径的基片。

  旋涂仪也称匀胶机，是运用十分快速地旋转发生的离心力来涂覆膜料的设备。匀胶机能够将液态或胶体资料涂覆在硅片、晶体、石英、陶瓷等基片上构成薄膜，首要运用在于光刻胶旋涂、生物培养基制造、溶胶凝胶法制造高分子薄膜等范畴。

  工业级大功率伺服电机转速可达5000RPM 支撑12寸直径的基片 可储存5条曲线，每条曲线五段参数 无油真空泵，真空吸附

  1.输入电源 AC220V, 50Hz 2.腔体资料 PP 3.样品尺度 直径≤12英寸 4.转速 0~5000rpm 5.转速分辨率 1rpm 6.单步时刻 3000s 7.操作方法 7英寸高清LCD触控屏 8.滴胶方法 手动滴胶 9.匀胶曲线条曲线.样品托 线.线kg

  旋涂在基板清洁中的运用及其具体进程。虽然旋涂清洁一般作用不如声波浴，而且速度较慢，但在某些情况下(如HMDS和其他外表改性处理)，旋涂清洁和洗刷进程依然十分有用。

  旋涂可用于去除某些添加剂。旋转洗刷进程中，研究人员运用中等体积的溶剂(如50 µl)，并进行屡次洗刷。但是，必需求分外留意的是，未去除剩余溶剂或许会引起很多蒸汽，从而影响后续薄膜的枯燥进程。

  旋涂也可用于清洁基板，但经历是，与根据声波浴的清洁比较，它一般发生相对较差的成果，而且与一次清洁一批基板比较速度较慢。它还常常导致在旋涂机中运用很多溶剂，如果在需求去除溶剂的环境(例如层流)中履行这些进程，这或许是一个问题。

  但是，有时旋转清洁和洗刷进程或许很有用，例如 HMDS 和某些其他外表改性处理能够从旋转洗刷中获益。一起，旋涂半正交溶剂也可用于去除某些添加剂。